研究業績

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雑誌掲載論文

表 題 研究業績概要 氏 名
Effects of post-deposition plasma treatments on stability of amorphous InGaZnOx thin-film transistors prepared with plasma-assisted reactive magnetron sputtering   Japanese Journal of Applied Physics,58,2s(2019), SAAC03/1- SAAC03/5 K. Takenaka
M. Endo
G. Uchida
Y. Setsuhara
Influence of sputtered atom flux on the electrical properties of a-IGZO films deposited by plasma-enhanced reactive sputtering   Journal of Alloys and Compounds,772,(2019),642-649 K. Takenaka
M. Endo
G. Uchida
Y. Setsuhara
A. Ebe
The effect of the H2/(H2+Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H2/C7H8 plasma chemical vapor deposition   Thin Solid Films,660,8(2018),891-898 T. Fang
K. Yamaki
K. Koga
D. Yamashita
H. Seo
N. Itagaki
M. Shiratani
K. Takenaka
Y. Setsuhara
Plasma-enhanced reactive linear sputtering source for formation of silicon-based thin films   Review of Scientific Instruments,89,8(2018),083902/1-083902/6 K. Takenaka
Y. Setsuhara
J. G. Han
G. Uchida
A. Ebe
Effect of a plasma-activated medium produced by direct irradiation on cancer cell killing   Japanese Journal of Applied Physics,57,9(2018),096201-1-096201-6 G. Uchida
T. Ito
J. Ikeda
T. Suzkuki
K. Takenaka
Y. Setsuhara

国際会議発表,国内学会発表

表 題 研究業績概要 氏 名
Gate-bias instability of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin-film transistors fabricated by plasma-assisted reactive processes 11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma 2019) / 12th International Conference on Plasma Nano Technology & Science(IC-PLANTS 2019),Nagoya Institute of Technology, Nagoya, Japan,(2019.03.17-2019.03.21), Kosuke Takenaka
Masashi Endo
Tomoki Yoshitani
Hiroyuki Hirayama
Giichiro Uchida
Akinori Ebe
Yuichi Setsuhara
プラズマ支援ミストCVDにおけるプラズマ中の液滴蒸発挙動 第66回応用物理学会春季学術講演会,東京工業大学 大岡山キャンパス,(2019.03.09-2019.03.12), 竹中 弘祐
節原 裕一
プラズマ支援反応性プロセスを用いた大面積基板へのIGZO薄膜トランジスタの形成 第66回応用物理学会春季学術講演会,東京工業大学 大岡山キャンパス,(2019.03.09-2019.03.12), 節原 裕一
竹中 弘祐
吉谷 友希
平山 裕之
遠藤 雅
内田 儀一郎
江部 明憲
Gate-bias instability of Amorphous InGaZnOx Thin-film Transistors Prepared with Plasma-assisted Reactive Processes 第36回 プラズマプロセシング研究会/第31回 プラズマ材料科学シンポジウム,高知城ホール,(2019.01.15-2019.01.17), Kosuke Takenaka
Masashi Endo
Tomoki Yoshitani
Hiroyuki Hirayama
Giichiro Uchida
Akinori Ebe
Yuichi Setsuhara
Positive-current-bias Instability of Post-deposition Plasma-treated IGZO TFTs Prepared with Plasma-assisted Reactive Sputtering 第28回日本MRS年次大会,西日本総合展示場 他,(2018.12.18-2018.12.20), Kosuke Takenaka
Masashi Endo
Tomoki Yoshitani
Hiroyuki Hirayama
Giichiro Uchida
Yuichi Setsuhara
プラズマ接触照射で作製したプラズマ活性培養液のがん細胞殺傷効果 第35回プラズマ核融合学会年会,大阪大学吹田キャンパス,(2018.12.03-2018.12.06), 内田 儀一郎
池田 純一郎
鈴木 天翔
竹中 弘祐
節原 裕一
Gate-bias instability of post-deposition plasma treated amorphous InGaZnOx thin-film transistors prepared with plasma-assisted reactive magnetron sputtering 40th International Symposium on Dry Process (DPS2018),Nagoya University, Nagoya,(2018.11.13-2018.11.15), Kosuke Takenaka
Yuichi Setsuhara
Masashi Endo
Giichiro Uchida
Development of Low-Temperature Plasma Process for Nitride and Oxide Functional Films Formation The 15th International Conference on Flow Dynamics (ICFD2018),Sendai, Miyagi, Japan,(2018.11.07-2018.11.09), Kosuke Takenaka
Giichiro Uchida
Yuichi Setauhara and
Takeru Okada
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-酸素添加の影響- 平成30年度(第71回)電気・情報関係学会九州支部連合大会,大分大学 旦野原キャンパス,(2018.09.27-2018.09.28), 間 結夏
川口 諒
西田 佳祐
内田 儀一郎
竹中 弘祐
古閑 一憲
節原 裕一
白谷 正治
川崎 敏之
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-照射距離が与える影響- 平成30年度(第71回)電気・情報関係学会九州支部連合大会,大分大学 旦野原キャンパス,(2018.09.27-2018.09.28), 川口 諒
西田 佳祐
間 結夏
内田 儀一郎
竹中 弘祐
古閑 一憲
節原 裕一
白谷 正治
川崎 敏之
プラズマ誘起流のPIV法による定量解析-水質の影響- 平成30年度(第71回)電気・情報関係学会九州支部連合大会,大分大学 旦野原キャンパス,(2018.09.27-2018.09.28), 西田 佳祐
川口 諒
間 結夏
内田 儀一郎
竹中 弘祐
古閑 一憲
節原 裕一
白谷 正治
川崎 敏之
Development of functionalization techniques of organic material surfaces for functional materials 3nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-3) ,Tokyo Garden Palace, Tokyo, Japan,(2018.09.25), Yuichi Setsuhara
Kosuke Takenaka
Giichiro Uchida
Development of low-temperature plasma process for formation of functional thin films 3nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-3) ,Tokyo Garden Palace, Tokyo, Japan,(2018.09.25), Yuichi Setsuhara
Kosuke Takenaka
Giichiro Uchida
Keisuke Ide
Toshio Kamiya
Device characteristics of rare-earth doped amorphous oxide semiconductors 3nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-3) ,Tokyo Garden Palace, Tokyo, Japan,(2018.09.25), Toshio Kamiya
Kosuke Ide
Kosuke Takenaka
Yuichi Setsuhara
Atsushi Hiraiwa
H. Kawarada
Takayoshi Katase
Hidenori Hiramatsu
Hideo Hosono
Effects of base pressure on optoelectronic properties of amorphous In-Ga-Zn-O 3nd International Symposium on Creation of Life Innovation Materials for Interdisciplinary and International Researcher Development (iLIM-3) ,Tokyo Garden Palace, Tokyo, Japan,(2018.09.25), Keisuke Ide
Kosuke Takenaka
Yuichi Setsuhara
Atsushi Hiraiwa
Hiroshi Kawarada
Takayoshi Katase
Hidenori Hiramatsu
Hideo Hosono
Toshio Kamiya
プラズマ支援反応性スパッタ製膜を用いた高移動度IGZO薄膜トランジスタの形成(III) 第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場、愛知,(2018.09.18-2018.09.21), 竹中 弘祐
遠藤 雅
吉谷 友希
内田 儀一郎
節原 裕一
様々なプラズマ照射条件で作製されたプラズマ活性培養液のがん細胞殺傷効果 第79回応用物理学会秋季学術講演会,名古屋国際会議場、愛知,(2018.09.18-2018.09.21), 内田 儀一郎
池田 純一郎
鈴木 天翔
竹中 弘祐
節原 裕一
ICP-Assisted Reactive Sputter Deposition and Plasma-Enhanced Annealing Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility In-Ga-Zn-O Thin-Film Transistors 16th International Conference on Plasma Surface Engineering,Congress Center, Garmisch-Partenkirchen, Germany,(2018.09.17-2018.09.21), Yuichi Setsuhara
Kosuke Takenaka
Masashi Endo
Giichiro Uchida
Akinori Ebe
プラズマジェット照射が誘起する液体流に雰囲気ガスが与える影響 第42回静電気学会全国大会,東京工業大学大岡山キャンパス,(2018.09.13-2018.09.14), 川崎 敏之
川口 諒
西田 佳祐
間 結夏
内田 儀一郎
竹中 弘祐
古閑 一憲
節原 裕一
白谷 正治

講演

表 題 研究業績概要 氏 名
ICP-Enhanced Reactive Plasma Processes for Low-Temperature Formation of High-Mobility Oxide Semiconductor TFT The 5th Asian Workshop on Applied Plasma Science and Engineering 2019 (APSE2019),University of Malaya, Kuala Lumpur, Malaysia,(2019.01.28-2019.01.29) Yuichi Setsuhara
Masashi Endo
Tomoki Yoshitani
Kosuke Takenaka
Giichiro Uchida
Akinori Ebe
Control of RONS in plasma-activated solutions and their application to cancer cell killing 28th Annual meeting of MRS-Japan 2018,Kita-kyushu,Japan,(2018.12.18-2018.12.20) G. Uchida
T. Suzuki
J. Ikeda
K. Takenaka
Y.Setsuhara
Formation of Functional Thin Films at Low Temperature using Plasma-assisted Reactive Processes 第28回日本MRS年次大会,西日本総合展示場 他,(2018.12.18-2018.12.20) Kosuke Takenaka
Masashi Endo
Tomoki Yoshitani
Hiroyuki Hirayama
Giichiro Uchida
Akinori Ebe
Yuichi Setsuhara
Control of ROS and RNS productions in liquid by using a nonthermal high-frequency plasma jet 2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics,Kanazawa,Japan,(2018.11.12-2018.11.16) Giichiro Uchida
Kosuke Takenaka
Yuichi Setsuhara
Studies of selective production of RONS in the plasma treated water and interaction between the plasma and amino acids The 71st Annual Gaseous Electronics Conference,Portland,USA,(2018.11.05-2018.11.09) Giichiro Uchida
プラズマアシスト反応性プロセスを用いた低温での高移動度薄膜トランジスタの作製 第2回酸化物半導体討論会/学際・国際的高度人材育成ライフイノベーションマテリアル創製共同研究プロジェクト分科会/第76回フロンティア材料研究所講演会,神奈川,(2018.10.26) 竹中 弘祐
節原 裕一
内田 儀一郎
井手 啓介
神谷 利夫
反応性プラズマプロセスを用いた機能性薄膜合成 日本溶接協会平成30年度第2回(通算88回) 表面改質技術研究委員会,神奈川,(2018.10.10) 竹中 弘祐
内田 儀一郎
節原 裕一
低ダメージ大面積プロセス対応プラズマ生成・制御技術の開発 2018年度フロンティア材料研究所学術賞受賞記念講演会・若手教員講演会,東京,(2018.09.04) 節原 裕一
Low-Temperature Formation of High-Mobility IGZO Thin Film Transistor by Advanced Reactive Sputter Deposition Enhanced with ICP International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications (THERMEC’2018),Paris, France,(2018.07.09) Yuichi Setsuhara
Masashi Endo
Kosuke Takenaka
Giichiro Uchida
大気圧プラズマプロセスの最前線-異材接合から医療応用まで- 第22回電子デバイス実装研究委員会,東京,(2018.07.02) 内田 儀一郎
竹中 弘祐
節原 裕一

解説

表 題 研究業績概要 氏 名
大気非平衡プラズマによる水中活性種の生成・制御 金属,89,6(2019), 節原 裕一
内田 儀一郎
竹中 弘祐
大気圧非平衡He プラズマジェットと溶液との相互作用に関する可視化研究 スマートプロセス学会誌,8,2(2019),58-63 内田 儀一郎
竹中 弘祐
川崎 敏之
古閑 一憲
白谷 正治
節原 裕一

著書

表 題 研究業績概要 氏 名
Plasma Medical Science Elsevier,(2018),分担執筆,17-25 Yuichi Setsuhara
Giichiro Uchida
Kosuke Tekenaka

受賞

賞 名 主催団体 氏 名
フロンティア材料研究所学術賞 フロンティア材料研究所 節原 裕一
 
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