Technical Expert Division
大阪大学接合科学研究所技術部
Joining and Welding Research Institute Osaka University

共通設備>物性分析・解析装置


●共通研究棟108号室のマイクロX線回折装置(ブルカー・エイエックスエス製D8 DISCOVER)が技術部管理となりました。

走査型オージェ電子分光分析装置
型     式 SAM680S
メーカー アルバック・ファイ
設置場所 共通研究棟 112号室
担 当 者
釜井 正善
仕     様 オージェ電子分光法は、EPMA等の特性X線分光法に比べて極表面の情報が得られるため、特に深さ方向の分析においてイオンスパッタリング装置と併用することで、高精度・高感度の組成分析(Li以上)が可能
本体操作マニュアルをダウンロードする
解析ソフトウェアマニュアルをダウンロードする

自動X線マイクロアナライザシステム
型     式 JXA-8530F
メーカー 日本電子
設置場所 共通研究棟 112号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次、村上 猛、小倉 卓哉、浅野 健司
仕     様 試料に電子線を照射することにより放出される特性X線を分析することで、元素の定性、定量、面、線分析などを行い、試料表面の組成状態を知ることができる
装置は波長分散型でフィールドエミッションタイプの電子銃を採用しているため微小領域の観察・分析が可能


3次元走査型電子顕微鏡
型     式 ERA-8800FE
メーカー エリオニクス
設置場所 共通研究棟 112号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 ZrO/W電界放射形電子銃を用いたFE-SEM、EDAX社製EDSが付属
最大分解能1.5nm、観察倍率×20〜600,000倍、3次元高さ測定が可能


イオンスパッタコーター
型     式 MSP-1S
メーカー 真空デバイス
設置場所 共通研究棟 112号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 全自動イオンスパッタコーター、Au-Pdターゲット装着中


イオンスパッタリング装置(金蒸着)
型     式 JEE-420T
メーカー 日本電子
設置場所 共通研究棟 112号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次、村上 猛、小倉 卓哉、浅野 健司
仕     様 Auターゲット装着中
操作マニュアルをダウンロードする

超深度表面形状測定装置
型     式 VK-8550
メーカー キーエンス
設置場所 共通研究棟 111号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 高さ測定範囲:最大7mm,高さ方向最小測定分解能0.01um


マイクロビッカース硬度試験装置
型     式 HM-221
メーカー ミツトヨ
設置場所 共通研究棟 111号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 硬度(自動)計測機能あり、試験力範囲:0.05gf〜2000gf


硬さ自動試験システム
型     式 AAV-502
メーカー アカシ
設置場所 共通研究棟 111号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 硬度(自動)計測機能あり、試験力範囲:0.5gf〜2000gf


表面粗さ測定機
型     式 サーフコム1400D
メーカー 東京精密
設置場所 共通研究棟 111号室
担 当 者
釜井 正善
仕     様 検出器:先端半径2μmダイヤモンドスタイラス
測定力:0.75mN、 分解能:X軸0.1μm、Z軸0.0004μm


マイクロX線回折装置 
型     式 D8 DISCOVER
メーカー ブルカー・エイエックスエス
設置場所 共通研究棟 108号室
担 当 者
水谷 正海、小倉 卓哉
仕     様 サンプルサイズ:数mm×数mmから50mm×50mm 程度
X線照射サイズ:30 μm 〜 1000 μm
用途:サンプル上の微小領域に対する結晶相測定、金属などのサンプルの局所的な残留応力測定


試料水平型X線回折装置
型     式 UltimaIV/rs
メーカー リガク
設置場所 共通研究棟 108号室
担 当 者
水谷 正海、浅野 健司
仕     様 汎用のX線回折装置


顕微レーザラマン分光装置
型     式 ARAMIS LabSpec5
メーカー 堀場製作所
設置場所 連携研究棟 実験室2
担 当 者
釜井 正善
仕     様 UV〜NIRまで4種のレーザー(325,532,633,785nm)を装備
LabSpecソフトウェアにより高機能な分析が可能
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走査型電子顕微鏡
型     式 SU-70
メーカー 日立ハイテクノロジーズ
設置場所 連携研究棟 実験室2
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次
仕     様 ZrO/Wショットキーエミッション形電子銃
最大分解能1.0nm、 観察倍率×30〜800000倍
オックスフォード社製EDS/WDS付


3次元微細組織解析装置
型     式 NB-5000
メーカー 日立ハイテクノロジーズ
設置場所 連携研究棟 9101号室
担 当 者
植原 邦佳、塔本 健次、伊東 万寿雄
仕     様 TSL製EBSDを付属
FIB加工により所望の断面組織を形成し、FE-SEM像、EBSD像を取得可能
3次元SEM像の取得は自動、3次元EBSD像は手動、試験片サイズに制約あり


走査型電子顕微鏡(EBSP付、Wガン)
型     式 JSM-6400
メーカー 日本電子
設置場所 スマートプロセス研究センター1号館 2階
担 当 者
水谷 正海、伊東 万寿雄
仕     様 タングステンフィラメントのSEM
堅牢で維持費も安価である
比較的低倍率のEBSD測定に向いており、EDSも付属する


超高速赤外線カメラシステム

型     式 Model760
メーカー 日本バーンズ
設置場所 スマートプロセス研究センター2号館 1階
担 当 者
水谷 正海
仕     様
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